LIDIZ IBS溅射系统是一种应用广泛的高效精密光学镀膜设备。LIDIZ配备用于基片预清洗、表面活化、溅射辅助的射频栅网离子源，以及射频中和器。LIDIZ用于从多种材料中获得高精度、高质量的薄膜，提供独特的光学工艺控制系统：单波长OCP和宽带OCP，可智能实时优化光学镀膜设计，自动完成高精度和优异重复性的复杂滤光片镀膜。
配置射频中和器的射频离子束溅射沉积
用于辅助、预清洁、表面活化且配置射频中和器的射频离子源
多种IZOVAC自动光控系统配置：宽带OCP,单波长OCP, 兼具2种控制类型的OCP Duo
具有负载腔的单盘式或行星架系统可以增加产量
优异的工艺稳定性及成品率
技术参数
装机面积
3540×1840×2000 mm (L×W×H)
设备重量
4500 kg
溅射源
配射频中和器的栅网型射频离子源
辅助源
工件架镀膜面积
单盘式Ø320 mm (800 cm2)
行星式3×Ø320 mm ( 2400 cm2)
负载腔
适用单盘式工件架
镀膜均匀性
≤±0.5%
≤±0.25% 使用均匀挡板
工艺控制系统
OCP自动光学控制系统
宽带OCP
单波长OCP
兼具2种控制类型的OCP Duo
基片材料
玻璃陶瓷、彩色及消色差光学玻璃、石英、氟化钾、蓝宝石等。
最大靶位数
4 pcs
溅射靶材
TiO2, Ta2O5, Nb2O5, ZrO2, HfO2, SiO2, etc.
镀膜速率
1.4 - 2.1 Å /sec 由具体材料决定
工艺中基片温度（无加热情况）
<100 оС.
基片加热系统温度
≤250 оС.
基片加热均匀性
± 2оС
极限真空度
8E-5 Pa
达到极限真空时间
8 hours
工艺起始压力
8E-4 Pa
达到工艺起始压力时间
30 min
真空泵系统
干式机械泵&冷阱泵
可选分子泵
镀膜实例
532 nm 窄带滤光片
532 nm + 1064 nm 带阻滤波器
