脉冲激光沉积系统通常使用聚焦脉冲激光或Nd:YAG激光在真空室中在非常短的时间内蒸发小部分固体靶材，喷射出的蒸汽将冷凝并产生与原始靶材具有相同化学成分的薄膜。
脉冲激光沉积技术可沉积高质量的外延和多层薄膜，膜厚精确可控。
主要应用领域：
ü 沉积金属和半导体以及氧化物、氮化物、碳化物、硼化物、硅化物、硫化物及氟化物等复杂化合物材料
ü 制备一些难以合成的材料，如金刚石和立方氮化物等
ü 沉积有机物、聚合物和生物材料等
设备特点：
Ø 设备可运行的基板尺寸从最小的2英寸到最大的12英寸
Ø 设备可以在多种背景气体及压力环境下沉积许多复杂材料，也可使用包括ps和fs激光
器在内的其他类型的激光器
Ø 设备无需使用银浆即可将基板加热至950℃，且氧气兼容
Ø 可与MBE技术结合，也可集成诸如磁控溅射等沉积技术，用于沉积独特的薄膜
Ø 设备配备独特的智能窗口，可以长时间保持光束路径清洁，激光束光栅设计提供出色的
薄膜均匀性和靶材利用率
Ø 设备可提供矩阵辅助脉冲激光蒸发(MAPLE)和共振红外脉冲激光蒸发(RIR PLE)系统，
由于损伤小，可用于沉积聚合物薄膜，基板最大尺寸为4英寸
Ø 设备加热温度均匀性好(±3%)，镀膜均匀性优异
Ø 提供装卸片、基片偏压、可变靶基距以及高压RHEED等各种选配件以及预留安装接口
Ø 可提供为箔片、塑料和金属带等柔性基材镀膜的卷对卷(Reel-to-Reel)沉积系统，已经在
高温超导行业有非常多成功的应用
